आपल्या देशातील अर्धवाहक उद्योग आणि पॅनेल उद्योग उच्च पातळीची समृद्धी राखतात. पॅनेल आणि अर्धवाहकांच्या उत्पादन आणि प्रक्रियेत एक अपरिहार्य आणि सर्वात मोठ्या आकाराचा विशेष इलेक्ट्रॉनिक वायू म्हणून नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइडची बाजारपेठ विस्तृत आहे.
सामान्यतः वापरल्या जाणाऱ्या फ्लोरिनयुक्त विशेष इलेक्ट्रॉनिक वायूंमध्ये हे समाविष्ट आहेसल्फर हेक्साफ्लोराइड (SF6), टंगस्टन हेक्साफ्लोराइड (WF6),कार्बन टेट्राफ्लोराइड (CF4), ट्रायफ्लोरोमेथेन (CHF3), नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड (NF3), हेक्साफ्लोरोइथेन (C2F6) आणि ऑक्टाफ्लोरोप्रोपेन (C3F8). नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड (NF3) हे प्रामुख्याने हायड्रोजन फ्लोराइड-फ्लोराइड वायू उच्च-ऊर्जा रासायनिक लेसरसाठी फ्लोरिन स्रोत म्हणून वापरले जाते. H2-O2 आणि F2 मधील प्रतिक्रिया उर्जेचा प्रभावी भाग (सुमारे 25%) लेसर रेडिएशनद्वारे सोडला जाऊ शकतो, म्हणून रासायनिक लेसरमध्ये HF-OF लेसर सर्वात आशादायक लेसर आहेत.
मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगात नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड हा एक उत्कृष्ट प्लाझ्मा एचिंग गॅस आहे. सिलिकॉन आणि सिलिकॉन नायट्राइड एचिंगसाठी, नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइडमध्ये कार्बन टेट्राफ्लोराइड आणि कार्बन टेट्राफ्लोराइड आणि ऑक्सिजनच्या मिश्रणापेक्षा जास्त एचिंग रेट आणि निवडकता असते आणि त्यामुळे पृष्ठभागावर कोणतेही प्रदूषण होत नाही. विशेषतः 1.5um पेक्षा कमी जाडी असलेल्या एकात्मिक सर्किट मटेरियलच्या एचिंगमध्ये, नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइडमध्ये खूप उत्कृष्ट एचिंग रेट आणि निवडकता असते, ज्यामुळे एच केलेल्या वस्तूच्या पृष्ठभागावर कोणतेही अवशेष राहत नाहीत आणि ते एक चांगले क्लिनिंग एजंट देखील आहे. नॅनोटेक्नॉलॉजीच्या विकासासह आणि इलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगाच्या मोठ्या प्रमाणात विकासासह, त्याची मागणी दिवसेंदिवस वाढत जाईल.
फ्लोरिनयुक्त विशेष वायूचा एक प्रकार म्हणून, नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड (NF3) हे बाजारातील सर्वात मोठे इलेक्ट्रॉनिक विशेष वायू उत्पादन आहे. ते खोलीच्या तपमानावर रासायनिकदृष्ट्या निष्क्रिय असते, ऑक्सिजनपेक्षा अधिक सक्रिय असते, फ्लोरिनपेक्षा अधिक स्थिर असते आणि उच्च तापमानात हाताळण्यास सोपे असते.
नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड हे प्रामुख्याने प्लाझ्मा एचिंग गॅस आणि रिअॅक्शन चेंबर क्लिनिंग एजंट म्हणून वापरले जाते, जे सेमीकंडक्टर चिप्स, फ्लॅट पॅनेल डिस्प्ले, ऑप्टिकल फायबर, फोटोव्होल्टेइक सेल्स इत्यादी उत्पादन क्षेत्रांसाठी योग्य आहे.
इतर फ्लोरिनयुक्त इलेक्ट्रॉनिक वायूंच्या तुलनेत, नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइडमध्ये जलद प्रतिक्रिया आणि उच्च कार्यक्षमतेचे फायदे आहेत, विशेषत: सिलिकॉन नायट्राइड सारख्या सिलिकॉनयुक्त पदार्थांच्या एचिंगमध्ये, त्याचा एचिंग दर आणि निवडकता उच्च असते, ज्यामुळे एच्ड केलेल्या वस्तूच्या पृष्ठभागावर कोणतेही अवशेष राहत नाहीत, आणि ते एक अतिशय चांगले स्वच्छता एजंट देखील आहे, आणि ते पृष्ठभागावर प्रदूषणकारी नाही आणि प्रक्रिया प्रक्रियेच्या गरजा पूर्ण करू शकते.
पोस्ट वेळ: डिसेंबर-२६-२०२४
