विशेष वायू
-
सल्फर टेट्राफ्लोराइड (एसएफ४)
EINECS क्रमांक: 232-013-4
सीएएस क्रमांक: ७७८३-६०-० -
नायट्रस ऑक्साईड (N2O)
नायट्रस ऑक्साईड, ज्याला लाफिंग गॅस म्हणूनही ओळखले जाते, हे N2O या रासायनिक सूत्राचे एक धोकादायक रसायन आहे. हा एक रंगहीन, गोड वासाचा वायू आहे. N2O हा एक ऑक्सिडीकारक आहे जो विशिष्ट परिस्थितीत ज्वलनास मदत करू शकतो, परंतु तो सामान्य तापमानात स्थिर असतो आणि त्याचा सौम्य भूल देणारा परिणाम होतो, आणि तो लोकांना हसवू शकतो. -
कार्बन टेट्राफ्लोराइड (CF4)
कार्बन टेट्राफ्लोराइड, ज्याला टेट्राफ्लोरोमिथेन असेही म्हणतात, हा सामान्य तापमान आणि दाबावर एक रंगहीन वायू असून तो पाण्यात अविद्राव्य असतो. CF4 वायू सध्या मायक्रोइलेक्ट्रॉनिक्स उद्योगात सर्वाधिक वापरला जाणारा प्लाझ्मा एचिंग वायू आहे. याचा उपयोग लेझर वायू, क्रायोजेनिक रेफ्रिजरंट, द्रावक, वंगण, इन्सुलेटिंग मटेरियल आणि इन्फ्रारेड डिटेक्टर ट्यूबसाठी शीतलक म्हणूनही केला जातो. -
सल्फ्युरिल फ्लोराइड (F2O2S)
सल्फ्युरिल फ्लोराइड (SO2F2), एक विषारी वायू, प्रामुख्याने कीटकनाशक म्हणून वापरला जातो. सल्फ्युरिल फ्लोराइडमध्ये तीव्र प्रसार आणि पारगम्यता, व्यापक कीटकनाशक क्षमता, कमी मात्रा, कमी अवशिष्ट प्रमाण, जलद कीटकनाशक गती, कमी वायू प्रसार वेळ, कमी तापमानात सोयीस्कर वापर, उगवण दरावर कोणताही परिणाम नाही आणि कमी विषारीपणा यांसारखी वैशिष्ट्ये असल्यामुळे, त्याचा वापर गोदामे, मालवाहू जहाजे, इमारती, जलाशय धरणे, वाळवी प्रतिबंध इत्यादी ठिकाणी अधिकाधिक व्यापकपणे केला जात आहे. -
सिलेन (SiH4)
सिलेन SiH4 हा सामान्य तापमान आणि दाबावर एक रंगहीन, विषारी आणि अत्यंत सक्रिय संकुचित वायू आहे. सिलेनचा वापर सिलिकॉनच्या एपिटॅक्सियल वाढीसाठी, पॉलिसिलिकॉन, सिलिकॉन ऑक्साइड, सिलिकॉन नायट्राइड इत्यादींसाठी कच्चा माल म्हणून, सौर पेशी, ऑप्टिकल फायबर, रंगीत काच उत्पादन आणि रासायनिक बाष्प निक्षेपणामध्ये मोठ्या प्रमाणावर केला जातो. -
ऑक्टाफ्लोरोसायक्लोब्युटेन (C4F8)
ऑक्टाफ्लोरोसायक्लोब्युटेन C4F8, वायूची शुद्धता: ९९.९९९%, याचा उपयोग अनेकदा खाद्यपदार्थांच्या एरोसोलसाठी प्रोपेलंट आणि माध्यम वायू म्हणून केला जातो. याचा उपयोग अनेकदा सेमीकंडक्टर PECVD (प्लाझ्मा एनहान्स्ड केमिकल व्हेपर डिपॉझिशन) प्रक्रियेमध्ये होतो, जिथे C4F8 हा CF4 किंवा C2F6 च्या जागी, क्लिनिंग गॅस आणि सेमीकंडक्टर प्रक्रियेतील एचिंग गॅस म्हणून वापरला जातो. -
नायट्रिक ऑक्साईड (NO)
नायट्रिक ऑक्साईड वायू हे नायट्रोजनचे एक संयुग असून त्याचे रासायनिक सूत्र NO आहे. हा एक रंगहीन, गंधहीन, विषारी वायू आहे जो पाण्यात अविद्राव्य आहे. नायट्रिक ऑक्साईड रासायनिक दृष्ट्या अत्यंत क्रियाशील असून ऑक्सिजनसोबत अभिक्रिया करून नायट्रोजन डायऑक्साइड (NO₂) हा क्षरणकारक वायू तयार करतो. -
हायड्रोजन क्लोराईड (HCl)
हायड्रोजन क्लोराईड (HCL) वायू हा एक रंगहीन आणि तीव्र गंध असलेला वायू आहे. त्याच्या जलीय द्रावणाला हायड्रोक्लोरिक आम्ल म्हणतात. हायड्रोजन क्लोराईडचा उपयोग प्रामुख्याने रंग, मसाले, औषधे, विविध क्लोराईड आणि क्षरण प्रतिबंधक बनवण्यासाठी केला जातो. -
हेक्साफ्लोरोप्रोपिलीन (C3F6)
हेक्साफ्लोरोप्रोपिलीन, रासायनिक सूत्र: C3F6, हा सामान्य तापमान आणि दाबावर एक रंगहीन वायू आहे. याचा उपयोग प्रामुख्याने विविध फ्लोरीनयुक्त सूक्ष्म रासायनिक उत्पादने, औषधनिर्माण क्षेत्रातील मध्यस्थ उत्पादने, अग्निशामक द्रव्ये इत्यादी तयार करण्यासाठी केला जातो आणि फ्लोरीनयुक्त पॉलिमर सामग्री तयार करण्यासाठी देखील याचा वापर केला जाऊ शकतो. -
अमोनिया (NH3)
द्रव अमोनिया / निर्जल अमोनिया हा एक महत्त्वाचा रासायनिक कच्चा माल असून त्याचे अनेक उपयोग आहेत. द्रव अमोनियाचा वापर शीतलक म्हणून केला जाऊ शकतो. याचा उपयोग प्रामुख्याने नायट्रिक आम्ल, युरिया आणि इतर रासायनिक खते तयार करण्यासाठी होतो, तसेच औषधे आणि कीटकनाशकांसाठी कच्चा माल म्हणूनही याचा वापर केला जाऊ शकतो. संरक्षण उद्योगात, याचा उपयोग रॉकेट आणि क्षेपणास्त्रांसाठी प्रणोदक (प्रोपेलंट्स) बनवण्यासाठी केला जातो.
