कोरड्या एचिंगमध्ये सामान्यतः वापरल्या जाणार्‍या एचिंग वायू काय आहेत?

ड्राय एचिंग तंत्रज्ञान ही एक महत्त्वाची प्रक्रिया आहे. ड्राय एचिंग गॅस सेमीकंडक्टर मॅन्युफॅक्चरिंगमधील एक महत्त्वाची सामग्री आहे आणि प्लाझ्मा एचिंगसाठी गॅसचा एक महत्त्वपूर्ण स्त्रोत आहे. त्याची कार्यक्षमता अंतिम उत्पादनाच्या गुणवत्ता आणि कामगिरीवर थेट परिणाम करते. हा लेख मुख्यत: कोरड्या एचिंग प्रक्रियेत सामान्यतः वापरल्या जाणार्‍या एचिंग वायू काय आहे हे सामायिक करतो.

फ्लोरिन-आधारित वायू: जसे कीकार्बन टेट्राफ्लोराइड (सीएफ 4), हेक्साफ्लोरोएथेन (सी 2 एफ 6), ट्रायफ्लूरोमेथेन (सीएचएफ 3) आणि परफ्लोरोप्रोपेन (सी 3 एफ 8). सिलिकॉन आणि सिलिकॉन संयुगे कोसळताना या वायू अस्थिर फ्लोराईड्स प्रभावीपणे तयार करू शकतात, ज्यामुळे सामग्री काढून टाकली जाईल.

क्लोरीन-आधारित वायू: जसे क्लोरीन (सीएल 2),बोरॉन ट्रायक्लोराईड (बीसीएल 3)आणि सिलिकॉन टेट्राक्लोराईड (एसआयसीएल 4). क्लोरीन-आधारित वायू एचिंग प्रक्रियेदरम्यान क्लोराईड आयन प्रदान करू शकतात, जे एचिंग रेट आणि निवड सुधारण्यास मदत करते.

ब्रोमाइन-आधारित वायू: जसे की ब्रोमिन (बीआर 2) आणि ब्रोमिन आयोडाइड (आयबीआर). ब्रोमिन-आधारित वायू विशिष्ट एचिंग प्रक्रियेत चांगले एचिंग कार्यक्षमता प्रदान करू शकतात, विशेषत: सिलिकॉन कार्बाईड सारख्या कठोर सामग्रीची तपासणी करताना.

नायट्रोजन-आधारित आणि ऑक्सिजन-आधारित वायू: जसे की नायट्रोजन ट्रायफ्लोराइड (एनएफ 3) आणि ऑक्सिजन (ओ 2). या वायूंचा वापर सामान्यत: एचिंग प्रक्रियेतील प्रतिक्रियेच्या परिस्थितीत समायोजित करण्यासाठी केला जातो ज्यामुळे एचिंगची निवड आणि दिशानिर्देश सुधारित होते.

प्लाझ्मा एचिंग दरम्यान भौतिक स्पटरिंग आणि रासायनिक प्रतिक्रियांच्या संयोजनाद्वारे या वायू भौतिक पृष्ठभागाचे अचूक कोरीव काम करतात. एचिंग गॅसची निवड कोरल्या जाणा material ्या सामग्रीच्या प्रकारावर, एचिंगच्या निवडक आवश्यकता आणि इच्छित एचिंग रेटवर अवलंबून असते.