एपिटॅक्सियल (वाढ)मिश्रित जी.ए.s

सेमीकंडक्टर उद्योगात, काळजीपूर्वक निवडलेल्या सब्सट्रेटवर रासायनिक वाष्प जमा करून सामग्रीचे एक किंवा अधिक थर वाढविण्यासाठी वापरल्या जाणार्‍या गॅसला एपिटॅक्सियल गॅस म्हणतात.

सामान्यतः वापरल्या जाणार्‍या सिलिकॉन एपिटॅक्सियल वायूंमध्ये डायक्लोरोसिलेन, सिलिकॉन टेट्राक्लोराईड आणिसिलेन? प्रामुख्याने एपिटॅक्सियल सिलिकॉन जमा, सिलिकॉन ऑक्साईड फिल्म जमा, सिलिकॉन नायट्राइड फिल्म जमा, सौर पेशी आणि इतर फोटोरिसेप्टर्ससाठी अनाकार सिलिकॉन फिल्म जमा करणे इ. एपिटॅक्सी ही एक प्रक्रिया आहे ज्यामध्ये एकच क्रिस्टल सामग्री सब्सट्रेटच्या पृष्ठभागावर जमा केली जाते.

रासायनिक वाष्प जमा (सीव्हीडी) मिश्रित गॅस

सीव्हीडी ही अस्थिर संयुगे वापरुन गॅस फेज रासायनिक प्रतिक्रियांद्वारे विशिष्ट घटक आणि संयुगे जमा करण्याची एक पद्धत आहे, म्हणजे गॅस फेज रासायनिक प्रतिक्रियांचा वापर करून एक फिल्म तयार करणारी एक पद्धत. तयार झालेल्या चित्रपटाच्या प्रकारानुसार, वापरलेला रासायनिक वाष्प साठा (सीव्हीडी) गॅस देखील वेगळा आहे.

डोपिंगमिश्रित गॅस

सेमीकंडक्टर डिव्हाइस आणि इंटिग्रेटेड सर्किट्सच्या निर्मितीमध्ये, काही अशुद्धी अर्धसंवाहक सामग्रीमध्ये तयार केल्या जातात जेणेकरून सामग्रीला आवश्यक चालकता प्रकार आणि प्रतिरोधक तयार करण्यासाठी विशिष्ट प्रतिरोधकता, पीएन जंक्शन, दफन केलेले स्तर इत्यादी डोपिंग प्रक्रियेमध्ये वापरल्या जाणार्‍या गॅसला डोपिंग गॅस म्हणतात.

प्रामुख्याने आर्सिन, फॉस्फिन, फॉस्फरस ट्रायफ्लोराइड, फॉस्फरस पेंटाफ्लोराइड, आर्सेनिक ट्रायफ्लोराइड, आर्सेनिक पेंटाफ्लोराइड,बोरॉन ट्रायफ्लोराइड, दिबोरेन, इ.

सहसा, डोपिंग स्त्रोत स्त्रोत कॅबिनेटमध्ये कॅरियर गॅस (जसे की आर्गॉन आणि नायट्रोजन) मिसळला जातो. मिसळल्यानंतर, गॅसचा प्रवाह सतत डिफ्यूजन फर्नेसमध्ये इंजेक्शन दिला जातो आणि वेफरच्या सभोवताल असतो, वेफरच्या पृष्ठभागावर डोपंट्स जमा करतो आणि नंतर सिलिकॉनमध्ये स्थलांतर करणार्‍या डोप्ड धातू तयार करण्यासाठी सिलिकॉनसह प्रतिक्रिया देतो.

एचिंगगॅस मिश्रण

एचिंग म्हणजे फोटोरोसिस्ट मास्किंगसह सब्सट्रेटवर प्रक्रिया पृष्ठभाग (जसे की मेटल फिल्म, सिलिकॉन ऑक्साईड फिल्म इ.) काढून टाकणे, जसे की फोटोर्सिस्ट मास्किंगसह क्षेत्र जतन करणे, जेणेकरून सब्सट्रेट पृष्ठभागावर आवश्यक इमेजिंग पॅटर्न मिळू शकेल.

एचिंग पद्धतींमध्ये ओले रासायनिक एचिंग आणि कोरडे रासायनिक एचिंगचा समावेश आहे. कोरड्या रासायनिक एचिंगमध्ये वापरल्या जाणार्‍या वायूला एचिंग गॅस म्हणतात.

एचिंग गॅस सहसा फ्लोराईड गॅस (हॅलाइड) असतो, जसे कीकार्बन टेट्राफ्लोराइड.